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        MOSFET的夾斷效應介紹

        返回列表來源:壹芯微 發布日期 2023-04-18 瀏覽:-

        MOSFET的夾斷效應介紹

        MOSFET-Lec2,我們重點講了兩件事:

        1、分析了自由電荷在溝道中的分布和行為,對后面理解其電路行為至關重要。

        2、根據溝道中電荷的分布特點得出了I_D隨V_GS和V_DS的變化的公式,進而得到了伏安特性曲線。

        31.jpg

        32.jpg

        Fig. 1

        這個公式有沒有限制條件呢? 是不論V_GS和V_DS取任何值的時候都成立嗎? OK,請往下看

        全文內容:

        夾斷效應 pinch-off

        重新修正我們的公式和V-I曲線

        1、夾斷效應 pinch-off

        如下圖Fig. 2,通過前兩期的分析我們知道當漏極(D)電壓高于源級(S)電壓時,溝道中的電流分布式不一樣的。
        33.jpg

        Fig. 2

        我們分三種情況討論這個事,前提是V_GS>V_TH,因為只有滿足這個條件時,溝道中才能有足夠多的自由電荷,才能形成電流,否則溝道相當于關閉狀態。

        ① V_GD>V_TH,此時溝道中的電荷分布為Fig. 3,此時溝道中的電流可以用紅色框框中的公式來表示,沒有問題。
        34.jpg

        Fig. 3

        ② V_GD=V_TH,此時溝道中的電荷分布為Fig.4,靠近漏極的溝道中電荷數量為0,溝道末端的電壓為V_D=V_G-V_TH,此時溝道中的電流也滿足紅色框框中的公式,而且I_D達到了公式中的最大值,即 Fig.1中的最高點。
        35.jpg

        Fig. 4

        (3) V_GD
        36.jpg

        Fig. 5

        此時溝道的末端V_L'不等于V_D,溝道中的電流也就不滿足紅色框框中的公式,還記得Lec 2中公式推導中的那個積分嗎? (不好意思,Lec 2中的積分公式寫錯了,更正如下)
        37.jpg

        由于溝道長度略微減小到L'和之前的長度L比,變化量可以忽略,左邊的積分上下限不變,但是右邊積分的上限不再是V_D,而是V_L'=V_G-V_TH,帶入積分公式得
        38.jpg

        從這個式子中可以看出,當V_GD 夾斷效應 。

        2、重新修正我們的公式和V-I曲線

        好,現在我們重新修正下公式,給出一個完整的公式:(因為通常用源級作為參考電壓,所以不用V_GD這種表達,V_GD=V_GS-V_DS,所以夾斷效應的條件就變成了 V_DS>V_GS-V_TH)
        39.jpg

        重新畫出I_D隨V_DS和V_GS的曲線為:

        40.jpg

        41.jpg

        OK,MOSFET的結構和電學特性到此為止就介紹的差不多了。

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