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        場效應晶體管-MOSFET類型及規格

        返回列表來源:壹芯微 發布日期 2020-05-12 瀏覽:-

        場效應晶體管-MOSFET類型及規格

        場效應晶體管類型

        有許多方法可以定義可用的不同類型的MOSFET。它們可以通過多種方式進行分類,但下面的樹形圖中可以介紹一些主要類型的MOSFET。

        場效應晶體管

        MOSFET的類型圖

        市場上有許多不同類型的FET,其中有各種名稱。一些主要類別延遲到低于。

        •結FET,JFET:結FET或JFET使用反向偏置二極管結來提供柵極連接。基本上,在溝道半導體上制造小二極管。在操作中,這是反向偏置的,這意味著它與通道有效隔離-只有二極管反向電流可以在兩者之間流動。JFET是最基本的FET類型,也是最初開發的MOSFET。然而,它仍然在許多電子領域提供優質的服務。

        •絕緣柵FET/金屬氧化硅FETFETMOSFET:這種FET在柵極和溝道之間使用絕緣層。通常,這由半導體的氧化物層形成。名稱IGFET指的是具有絕緣柵極的任何類型的FET。最常見的IGFET形式是硅MOSFET-金屬氧化物硅FET。這里,柵極由設置在氧化硅上的金屬層制成,該金屬層又位于硅溝道上。

        •雙柵極MOSFET:這是一種特殊形式的MOSFET,沿溝道具有兩個串聯的柵極。與單柵器件相比,這使得能夠進行一些顯著的性能改進,特別是在RF時。第二個門在輸入和輸出之間提供額外的隔離,除此之外,它還可以用于混合/乘法等應用。

        場效應晶體管

        雙柵極MOSFET

        •MESFET:MEtal硅FET通常使用砷化鎵制造,通常稱為GaAsFET。GaAsFET通常用于RF應用,它們可以提供高增益低噪聲性能。GaAsFET技術的一個缺點是非常小的柵極結構,這使得它對靜電ESD的損壞非常敏感。處理這些設備時必須非常小心。

        •HEMT/PHEMT:高電子遷移率晶體管和假晶高電子遷移率晶體管是基本FET概念的發展,但開發用于實現非常高頻率的操作。雖然價格昂貴,但它們可以實現非常高的頻率和高水平的性能。

        •FinFET:FinFET技術現在正在集成電路中使用,通過允許更小的特征尺寸實現更高水平的集成。由于需要更高的密度水平并且越來越難以實現更小的特征尺寸,因此更廣泛地使用FinFET技術。

        •VMOS:垂直MOS的VMOS標準。它是一種使用垂直電流來改善開關和載流性能的FET。VMOSFET廣泛用于電源應用。

        盡管在文獻中可以看到一些其他類型的場效應晶體管,但是這些類型通常是特定技術的商品名,并且它們是上面列出的一些FET類型的變體。

        MOSFET規格

        除了為任何給定電路選擇特定類型的MOSFET之外,還必須了解不同的規范。通過這種方式,可以確保MOSFET將工作到所需的性能參數。

        MOSFET規范包括從允許的最大電壓和電流到電容水平和跨導的所有內容。這些都在確定任何特定MOSFET是否適合給定電路或應用中起作用。

        場效應晶體管技術可以用于雙極晶體管不適合的許多領域:每種都有其自身的優點和缺點,并且可以在許多電路中用于很好的效果。場效應晶體管具有非常高的輸入阻抗,并且是電壓驅動器件,這使其可以在許多領域中使用。

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