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        場效應管的結構、電學符號和電學特性介紹

        返回列表來源:壹芯微 發布日期 2023-04-18 瀏覽:-

        場效應管的結構、電學符號和電學特性介紹

        現在所有電子產品中的芯片、放大器中的基本結構就是MOSFET,學好MOSFET是理解這些芯片、放大電路的前提。

        學習MOSFET之前需要具備哪些知識?

        基本電路的電路知識包括:電阻、電容、電感的知識、KCL、KVL、戴維南等效電路、諾頓等效電路等。

        全文內容:

        MOSFET的結構

        MOSFET的電學符號和電學特性

        1、MOSFET的結構

        MOSFET的名字就反應了本文要講的內容:M-Metal-導體,O-Oxide-氧化物(絕緣體),S-Semiconductor-半導體,F-Field,E-Effect,T-Transistor -場效應晶體管。 前三個字母反應了它的結構,MOSFET就是由導體-氧化物-半導體三層結構組成的器件,而后三個字母則反應了他的工作特性,它是一個感應電壓的晶體管。
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        Fig. 1 MOSFET的結構

        第一眼看到圖Fig.1會感覺有些復雜,沒關系不要緊,我們從簡單的一點點來分析,首先看圖Fig. 2,這是一個簡單的我們假想的半導體器件,雖然是假想的,但是不妨礙我們對其原理進行理解。 這個我們意淫的器件同樣是由導體、絕緣體、半導體三層結構組成,這個半導體是P型摻雜的還是N型摻雜的先不管,這里以P型摻雜的半導體為例。
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        Fig. 2 一個簡單的假想的半導體器件

        看Fig. 3左圖,如果我們在導體和半導體兩端加電壓V1,因為有絕緣體在中間整個器件沒有電流通過,但此時你有沒有發現這個器件就是一個電容,導體和電源正極相連帶正電荷,P型摻雜的半導體本來能用來導電的自由電子很少,但由于和電源負極相連,自由電子都聚集到和絕緣體相接的表面。 這個自由電荷聚集的區域我們稱為溝道,此時,溝道中沒有電流,只有電荷,其電荷數量為
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        Fig. 3 加電壓

        這里的V就是V1,C就是導體和半導體形成的電容,知道了這個原理,我們可以得到下面兩點初步的認識:

        ①當V1變大,電荷數量Q變大,溝道中自由電荷的密度增大;

        ②當絕緣體的厚度t_ox下降,則電容C變大,電荷數量變大,溝道中自由電荷的密度增大。

        看Fig. 3右圖,當在溝道的兩端加電壓V2,因為溝道中本身存在可以自由移動的電子,此時在溝道中就形成了電流。 當V1增大時,電荷密度增加,導致溝道兩端之間的電阻變小,導致電流增大。

        有了上面的理論基礎我們回過頭來再看Fig. 1,是不是感覺親切了很多,但是和Fig. 3圖相比,Fig. 1有四點值得注意:

        ①該器件在下面的P型半導體基板上注入了兩塊重摻雜的N型半導體。 這是因為N型半導體能提供自由電子,對溝道中的電流傳導有好處;

        ②所有的電壓都是在上面加的,這是因為所有的MOSFET器件是做在晶圓上的,晶圓片的示意圖如圖Fig. 4,其中藍色的小方格表示一個個小器件,所以,電壓只能從上面加,不可能從側邊和下面加。
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        Fig. 4 晶圓片示意圖

        ③Fig. 3有圖有4個端口,即V1的兩個端口和V2的兩個端口,而Fig. 1只有源級S、漏極D和柵極G三個端口,這是因為習慣上把最下面的半導體基板作為參考電壓為零,沒有畫出來。 而且受源級S、漏極D和柵極G三個端口電壓的影響,溝道兩邊的電壓是不均勻的,靠近源級一側的電壓為V_GS,而靠近漏極一側的電壓為V_GD。

        ④MOSFET器件是對稱的,哪一端是源級,那一端是漏極呢? 對于Fig. 1的MOSFET(NMOS)來說,兩個N型摻雜半導體上加電壓低的一端是源級,這是因為NMOS靠電子導電,從電壓低的一端流到電壓高的一端,電壓低的一端為電子的“源泉”。 (PMOS后面再講)

        2、MOSFET的電學符號和電學特性

        ① 電學符號
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        Fig. 5 左為物理結構,右為電學符號

        Fig. 5中左圖為MOSFET的物理結構,右圖為其電學符號,這里我畫了4個是為了無論這個符號在電路圖中怎么擺放,大家都應該認識。 這里要大家特別注意的是:符號中的箭頭不是柵極或漏極的標志,因為MOSFET是對稱的,哪一端是漏極或柵極需要看所加電壓的大小。 這里的箭頭只是區別NMOS還是PMOS,NMOS箭頭向外如圖中所示,PMOS箭頭向里(后面再講)。 一個簡單的記憶方法是,箭頭總是從P型半導體指向N型半導體(和二極管的箭頭類似)。

        ② 電學特性

        研究一個器件最直接的一種方法就是在各個端口加電壓,然后看看各個端口電流的一些性質,也就是研究該器件各個端口的伏安特性曲線。

        Case I:如圖Fig. 6,在MOSFET柵極加電壓,V_G>0,V_S=V_D=0。 此時在溝道中聚集了電荷,電荷密度會隨著V_G的增大而增大,但是沒有電流。 
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        圖6 案例I

        Case II:如圖Fig. 7,在MOSFET柵極和漏極加電壓,V_G>0,V_D>0,V_S=0。 此時,V_G試溝道聚集了電荷,當V_G>V_TH時,電荷數量聚集達到一定程度,再當V_D>0時,在電壓的驅動下自由電荷運動形成電流。
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        圖7 案例二

        伏安特性:① 當V_G>V_TH為常數時,從直觀上來看流過溝道的電流I_D隨著V_D的增大而增大。 ② 當V_D為常數時,因為V_G越大,溝道中聚集的電子數量越多,相當于從溝道一端到另一端的電阻越小,那么從直觀上來看流過溝道的電流I_D也會增大。

        那具體I_D和V_G、V_D是什么關系呢? 線性關系還是非線性關系呢? 表達式是什么呢? 下篇文章分解。

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