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        MOS管失效的背后:常見故障及其根源分析

        返回列表來源:壹芯微 發布日期 2024-04-09 瀏覽:-

        MOS管,它究竟是什么?具備怎樣的特性?在控制器電路中,MOS管存在多個工作狀態,而MOS主要的損耗與這些狀態息息相關。

        一、MOS的工作狀態主要包括:開啟狀態(由截至到導通的過渡過程)、導通狀態、關閉狀態(由導通到截至的過渡過程)、截至狀態。

        二、MOS主要的損耗包括:開關損耗(開啟狀態和關閉狀態)、導通損耗、截至損耗(由漏電流引起的,這部分損耗一般忽略不計),還有雪崩能量損耗。只要這些損耗控制在MOS承受規格范圍內,MOS就能夠正常運行;一旦超出范圍,MOS就會遭受損壞。值得一提的是,開關損耗往往大于導通狀態損耗,不同類型的MOS管這個差距可能會相當大。

        三、造成MOS損壞的主要原因有:

        過電流:持續大電流或瞬間超大電流導致結溫過高而引發燒毀。

        過壓:源極和漏極之間的過壓擊穿、源極和柵極之間的過壓擊穿。

        靜電:靜電擊穿,對于CMOS電路來說,都是一個不可忽視的威脅。

        四、MOS開關原理:

        MOS是一種電壓驅動型器件,只要柵極和源極之間施加適當的電壓,源極和漏極之間的通路就會形成。這個通路的電阻被稱為MOS內阻,即導通電阻。這個內阻的大小基本上決定了MOS芯片能夠承受的最大導通電流;內阻越小,承受電流就越大(因為發熱量較小)。

        五、防止MOS損壞:

        MOS問題遠不止這些。麻煩在于其柵極和源極之間、源極和漏極之間,以及柵極和漏極之間,都存在著等效電容。因此,給柵極施加電壓就是給這些電容充電的過程;而MOS的源極和漏極之間的開啟過程則受到柵極電容充電過程的制約。

        然而,這三個等效電容之間是串并聯關系,彼此相互影響,而不是獨立的。其中一個關鍵電容是柵極和漏極之間的電容Cgd,也被稱為米勒電容。這個電容隨著柵極和漏極之間的電壓變化而迅速變化。米勒電容是給柵極和源極電容充電的絆腳石,因為一旦柵極給柵 - 源電容Cgs充電達到一個平臺后,柵極的充電電流就會被用于給米勒電容Cgd充電。這時,柵極和源極之間的電壓不再升高,達到了一個平臺,也就是所謂的米勒平臺。

        Gs極加電容,減慢MOS管的導通時間,有助于減小米勒振蕩。這樣可以防止MOS管的燒毀。

        如果充電速度過快,就會導致劇烈的米勒振蕩;而充電速度過慢,則會減小振蕩,但會延長開關時間,增加開關損耗。MOS的開啟過程從無窮電阻到導通內阻很小的阻值,是一個轉變過程。

        總之,選擇Qgs和Qgd小的MOS管,并且同時具有低內阻,可以有效減小損耗。

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